產(chǎn)品中心
含氟新材料、含氟醫藥、農藥中間體生產(chǎn)銷(xiāo)售!
產(chǎn)品詳情
分子式:BF3
分子量:67.80
GAS號:7637-07-2
熔點(diǎn):-127℃
沸點(diǎn):-100℃
閃點(diǎn):4℃
水溶性:溶于水
常溫常壓下三氯化硼11(B11Cl3)為無(wú)色發(fā)煙氣體,可燃,有刺激性、酸性氣味,遇水分解生成氯化氫和硼酸,并放出大量熱量,在濕空氣中因水解而生成煙霧,在醇中分解為鹽酸和硼酸酯。三氯化硼11反應能力較強,能形成多種配位化合物,三氯化硼加熱能和玻璃、陶瓷起反應,也能和許多有機物反應形成各種有機硼化合物。高純三氯化硼11主要用于(硅)半導體器件制造工藝中的擴散摻雜,在高溫下,經(jīng)過(guò)分解生成硼雜質(zhì)向硅中擴散,形成P型半導體,也可用于A(yíng)l、MoSi2、TaSi2、TiSi2、WSi等材料的干法蝕刻。
項目Items | 單位Units | 指標Index |
三氯化硼11 Boron11 Trichloride≥ | Vol.% | 99.9995 |
氧+氬Oxygen+Argon< | Vol.ppm | 1 |
氮Nitrogen< | Vol.ppm | 4 |
一氧化碳Carbon monoxide< | Vol.ppm | 0.5 |
二氧化碳Carbon dioxide< | Vol.ppm | 0.2 |
甲烷Methane < | Vol.ppm | 0.5 |
總雜質(zhì)含量Total impurity content≤ | Vol.ppm | 5 |
金屬離子Metal ion | Vol.ppm | 供需雙方商定 |
Supply and demand agreement |
產(chǎn)品用途 Application
高純三氯化硼11主要用于半導體器件和集成電路制造中擴散摻雜、離子注入、干法蝕刻等工藝。三氯化硼11也可用以制造高純硼、有機合成用催化劑、硅酸鹽分解時(shí)的助熔劑,在合金精制中作為除氧劑、氮化物和碳化物的添加劑。
廠(chǎng)房環(huán)境